半导体制造覆盖晶圆制造（光刻、刻蚀、离子注入、CMP）、封装测试两大段。ASML 是光刻机绝对领导者；Applied Materials、Tokyo Electron 在沉积/刻蚀；洁净室对 ISO Class 1-5、超高纯气体、亚微米运动控制要求世界级最严苛。
半导体
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半导体制造对洁净室 ISO Class 1-5、超高纯度气体管路、亚微米运动控制要求极高，ASML、Applied Materials、Tokyo Electron 是设备主导。
半导体制造对洁净室 ISO Class 1-5、超高纯度气体管路、亚微米运动控制要求极高，ASML、Applied Materials、Tokyo Electron 是设备主导。
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常见问题
Q 洁净室 ISO Class 1 与 100 旧标准？
A
ISO 14644-1 Class 1 ≈ 旧 US Federal Standard 209E Class 1（每立方英尺 ≥ 0.5 μm 颗粒数）。Class 1 用于光刻；Class 5 用于装配；Class 7 用于公共区域。
Q 为什么半导体设备这么贵？
A
ASML EUV 光刻机 1.5-3 亿美元/台。原因：超低公差（亚 nm）、超高纯（环境与试剂）、稳定性要求（光路毫秒级）、专利集成度（5 万+ 部件）。
Q 中国半导体设备进口限制？
A
美 + 日 + 荷三方对 14 nm 以下先进制程设备限制；成熟制程（28 nm+）大部分仍可进口。0so 监控合规清单变化。
Q 晶圆厂运维特点？
A
24/7 全年无停机；备件 SLA 4 小时上门；技师常驻；零部件追溯到 wafer 批次。Siemens、Beckhoff 在工业 PC 与运动控制有专门半导体产品线。