8486.20.31.30
中国制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机）
税率信息
最惠国税率
0%
普通税率
100%
出口退税率
无数据
增值税率
13%
出口税率
0%
消费税率
0%
进口暂定税率
无数据
出口暂定税率
无数据
监管条件
--
计量单位
第一法定单位
台
第二法定单位
千克
同品目相关编码
| HS 编码 | 产品名称 |
|---|---|
| 8486.10.10.00 | 利用温度变化处理单晶硅的机器及装置 |
| 8486.10.20.00 | 制造单晶柱或晶圆用的研磨设备 |
| 8486.10.30.00 | 制造单晶柱或晶圆用的切割设备 |
| 8486.10.40.00 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
| 8486.10.90.00 | 其他制造单晶柱或晶圆用的机器及装置 |
| 8486.20.10.00 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备 |
| 8486.20.21.00 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 8486.20.22.00 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 |
| 8486.20.29.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备 |
| 8486.20.31.10 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） |
| 8486.20.31.20 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） |
| 8486.20.31.90 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 |
| 8486.20.39.10 | 制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机（步进式除外） |
| 8486.20.39.20 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氪（ KrF ）光刻机（步进式除外） |
| 8486.20.39.30 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩（ ArF ）光刻机（步进式除外） |
| 8486.20.39.40 | 制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式（ ArFi ）光刻机（步进式除外） |
| 8486.20.39.50 | 制造半导体器件或集成电路用的极紫外（ EUV ）光刻机（步进式除外） |
| 8486.20.39.90 | 未列名制造半导体器件或集成电路用的光刻设备 |
| 8486.20.41.00 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 |
| 8486.20.49.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用刻蚀及剥离设备 |
| 8486.20.50.00 | 制造半导体器件或集成电路用离子注入机 |
| 8486.20.90.00 | 其他制造半导体器件或集成电路用机器及装置 |
| 8486.30.10.00 | 制造平板显示器用扩散、氧化、退火及其他热处理设备 |
| 8486.30.21.00 | 制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD) |
| 8486.30.22.00 | 制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD) |
| 8486.30.29.00 | 其他制造平板显示器用薄膜沉积设备 |
| 8486.30.31.00 | 制造平板显示器用分步重复光刻机 |
| 8486.30.39.00 | 其他将电路图投影或绘制到感光半导体材料上的装置 |
| 8486.30.41.00 | 制造平板显示器用超声波清洗装置 |
| 8486.30.49.00 | 其他制造平板显示器用湿法蚀刻、显影、剥离、清洗装置 |
| 8486.30.90.00 | 其他制造平板显示器用的机器及装置 |
| 8486.40.10.00 | 主要用于或专用于制作和修复掩膜版或投影掩膜版的装置 |
| 8486.40.21.00 | 塑封机 |
| 8486.40.22.00 | 引线键合装置 |
| 8486.40.29.00 | 其他主要或专用于装配封装半导体器件和集成电路的设备 |
| 8486.40.31.00 | IC工厂专用的自动搬运机器人 |
| 8486.40.39.00 | 其他用于升降、装卸、搬运集成电路等的设备 |
| 8486.90.10.00 | 升降、搬运、装卸机器用零件或附件 |
| 8486.90.20.00 | 引线键合装置用零件或附件 |
| 8486.90.91.10 | 两用物项管制的带背板的溅射靶材组件 |
| 8486.90.91.90 | 其他的带背板的溅射靶材组件 |
| 8486.90.99.10 | 制造半导体器件或集成电路用光刻设备用零件及附件 |
| 8486.90.99.90 | 其他品目84.86所列设备用零件及附件 |
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数据来源于中国海关总署公开信息，仅供参考，实际以海关最新公告为准。