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ALLRESIST

电子束光刻胶 光致抗蚀剂 紫外光刻胶 电子束抵制 光刻胶
德国
allresist.com

ALLRESIST - 品牌介绍

ALLRESIST GmbH回到六十年代的根源。在“Fotochemische Werke柏林”(ORWO),研究项目启动了复印涂料的发展。已经在1965年,第一个工作光致抗蚀剂的基础上肉桂酸用于生产的晶体管。年代,开发工作力度和研究部门扩大到100名员工。大规模生产的新生产设施成立于1987年,生产和改进版本的抗拒这个设施仍 ALLRESIST 今天提供的。 在1992年试图抵制生产私有化后失败了,部门被关闭。唯一可能的方式保存非常抵制技术是成立一个新的大,小,高生产力的公司—— ALLRESIST GmbH。

ALLRESIST - 应用领域

发光二极管 微流道和生物芯片 光子器件 微机电系统 太阳能光伏 工业 模拟半导体 光电子器件

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